專利申請：一項發(fā)明創(chuàng)造必須由申請人向政府主管部門（在中國,是中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局）提出專利申請，經(jīng)中華人民共和國國家知識產(chǎn)權(quán)局依照法定程序?qū)彶榕鷾?zhǔn)后，才能取得專利權(quán)。在中國，發(fā)明創(chuàng)造包括三種類型，分別是：發(fā)明、實用新型和外觀設(shè)計。在申請階段，分別稱之為發(fā)明專利申請、實用新型專利申請和外觀設(shè)計專利申請。獲得授權(quán)之后，分別稱之為發(fā)明專利、實用新型專利和外觀設(shè)計專利，此時，申請人就是相應(yīng)專利的專利權(quán)人。
下面給大家簡單介紹這三種專利類型：
1、發(fā)明專利：針對產(chǎn)品、方法或者產(chǎn)品、方法的改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，可以申請發(fā)明專利；
2、實用新型專利：針對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實用的新的技術(shù)方案，可以申請實用新型專利；
3、外觀設(shè)計專利：針對產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計，可以申請外觀設(shè)計專利。
簡單認(rèn)識了一下專利的幾種類型，現(xiàn)在要說正事了哦，專利的申請流程也是根據(jù)不同的類型來決定的，下面鼎智知識產(chǎn)權(quán)就給大家來普及一下：
（一）發(fā)明專利的申請
1、 發(fā)明專利申請審批流程專利申請—受理—初審—公布—實質(zhì)審查請求—實質(zhì)審查—授權(quán)
2、 申請發(fā)明專利需要提交的文件
1） 請求書：包括發(fā)明專利的名稱、發(fā)明人或設(shè)計人的姓名、申請人的姓名和名稱、地址等。
2） 說明書：包括發(fā)明專利的名稱、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明和具體實施方式。
3） 權(quán)利要求書：說明發(fā)明的技術(shù)特征，清楚、簡要地表述請求保護(hù)的內(nèi)容。
4） 說明書附圖：發(fā)明專利常有附圖，如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術(shù)方案的，可以沒有附圖。
（二）實用新型專利申請
1、實用新型專利申請審批流程專利申請—受理—初審—公告—授權(quán)
2、申請實用新型專利需要提交的文件
1）請求書：包括實用新型專利的名稱、發(fā)明人或設(shè)計人的姓名、申請人的姓名和名稱、地址等。
2）說明書：包括實用新型專利的名稱、所屬技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明和具體實施方式。說明書內(nèi)容的撰寫應(yīng)當(dāng)詳盡，所述的技術(shù)內(nèi)容應(yīng)以所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員閱讀后能予以實現(xiàn)為準(zhǔn)。
3）權(quán)利要求書：說明實用新型的技術(shù)特征，清楚、簡要地表述請求保護(hù)的內(nèi)容。
4）說明書附圖：實用新型專利一定要有附圖說明。
5）說明書摘要：清楚地反映發(fā)明要解決的技術(shù)問題，解決該問題的技術(shù)方案的要點以及主要用途
（三）外觀專利的申請
1、 申請外觀專利的流程專利申請—受理—初步審查—公告—授權(quán)
2、 外觀專利需要提交的文件
1） 請求書：包括外觀專利的名稱、設(shè)計人的姓名、申請人的姓名、名稱、地址等。外觀設(shè)計圖片或照片：至少兩套圖片或照片（前視圖、后視圖、俯視圖、仰視圖、左視圖、右視圖，如果必要還是提供立體圖）
2）外觀設(shè)計簡要說明：必要時應(yīng)提交外觀設(shè)計簡要說明。
各國對專利申請的審查有不同的要求，基本上實行兩種不同的制度。有的國家實行形式審查制，即只審查專利申請書的形式是否符合法律的要求，而不審查該項發(fā)明是否符合新穎性等實質(zhì)性條件。有些國家則實行實質(zhì)審查制，即不僅審查申請書的形式，而且對發(fā)明是否具備新穎性、先進(jìn)性和實用性等條件進(jìn)行實質(zhì)性的審查，只有具備上述專利條件的發(fā)明，才授予專利權(quán)。中國和世界上大多數(shù)國家采用實質(zhì)審查制。
知識都給大家講完羅，現(xiàn)在需要申請專利的老板們，如果您覺得沒有時間，又或者覺得申請起來太過于復(fù)雜，來找我們鼎智知識產(chǎn)權(quán)，我們將全程為您提供優(yōu)質(zhì)高效專業(yè)的服務(wù)！
下面是擴(kuò)展內(nèi)容，專利申請的原則與程序：
